金融界2025年5月28日消息，国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“用于减轻掩模误差影响的源优化”的专利国内股票配资入门，公开号CN120051731A，申请日期为2023年10月。
专利摘要显示，公开了用于减小由掩模装置导致的晶片图案化误差的系统、方法和计算机软件。一种方法（300）可以包括获得具有与经优化的光瞳（322）相关联的第一部分（324）的第一掩模设计（310），其中，所述经优化的光瞳由源‑掩模优化过程（320）产生。可以对在所述掩模装置上的误差进行定位且可以识别所述掩模装置的具有所述误差的第二部分（330）。所述方法还可以包括通过组合地利用所述第一部分（324）和所述第二部分（330）来执行源优化（340）以产生经重新优化的光瞳（350）。
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